深圳市托理拆利机电设备有限公司是英国Edwards爱德华真空泵授权代理商，为客户24小时提供技术支持及售后服务，针对各个行业工艺端设计提供适合的负压真空系统解决方案，锂电池真空设备、光伏真空设备、为科研真空设备、实验室真空设备、科学仪器真空设备、半导体真空设备、工厂高真空设备、学校高真空设备提供优化的真空解决方案。技术服务：，23，78，83，80
真空镀膜机真空泵-双级旋片真空泵-Edwards爱德华真空泵应用案例
真空镀膜机专用真空泵，Edwards双级油封旋转叶片真空泵因其高极限真空、高抽速、低运行噪音和水蒸气处理能力而享有盛誉。这些直联式旋片泵设计紧凑且无振动，配备防伤手风扇和联轴器壳体，可为操作人员提供极佳的保护。这种泵能胜任大多数工作，并且可在其正常运行参数范围内，安全地处理非易燃气体和蒸汽。
特性与优势
先进的油压回路可提供有效的润滑（即使是在高气体负荷下）
当泵关闭时，弹簧式分配阀可提供油和空气反吸保护
气镇控制可帮助处理高水蒸气负荷
传动轴杆上安装有工业级滚柱轴承，可靠性极高，使用寿命和无故障工作时间也更长
通过全高度油品观察窗可方便地检查油位和相关情况
较大型号上安装有滤油机状态指示器，方便您更换滤油机
中央进气口方便您在需要时安装机械增压泵
提供便捷的维修套件，并提供支持服务，维护简单
提供了各种附件，可满足用需求
泵和附件可以作为单个部件提供，也可以作为完整系统化、经过出厂测试的组合提供。
真空镀膜机Edwards爱德华真空泵
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，过过沉膜过程（散点-岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简间理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
化学成分
薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性：就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的含量所在。具体因素也在下面给出。
3.晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜中的热点问题，具体见下。
主要分类
主要分类有两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。
一、对于蒸发镀膜：
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
厚度均匀性主要取决于：
1。基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3.蒸发功率，速率
4.真空度
5.镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：
1。晶格匹配度
2。基片温度
3。蒸发速率
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
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